Shin-Etsu baut neue Anlage für Photomasken

24.06.2015 Der japanische Chemiekonzern Shin-Etsu Chemical will in Echizen City, Präfektur Fukui, Japan, eine neue Anlage zur Produktion von Fotomasken-Rohlingen bauen. Das Projekt hat einen Wert von 56 Mio. USD. 

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Shin-Etsu baut neue Anlage für Photomasken

Fotomasken werden in der Halbleiterfertigung benötigt (Bild: photocrew – Fotolia)

Die Anlage soll bereits Ende 2016 die Produktion aufnehmen. Mit der neuen Anlage will das Chemieunternehmen seine Produktionskapazität für Fotomasken um 20 Prozent erhöhen.

Fotomasken werden in der Halbleiter-Litografie genutzt, um Schaltkreise auf Siliziumwafer aufzubringen. 

Hier geht´s zur ausführlichen Pressemeldung von Shin-Etsu.

(as)

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