
Die Anlage soll die Produktion von Wafern für die Halbleiterindustrie unterstützen. (Bild: Daniel Schweinert – Fotolia)
Der zweite Generator soll bis 2022 in Betrieb gehen. Die neue Anlage, die vom Joint -Venture Linde Lienhwa (LLH) installiert und betrieben wird, befindet sich in der Shanghai Lingang Industrial Zone, einem der größten Industrieparks in Shanghai. Linde soll die 5,1 Mrd. US-Dollar teure Wafer-Fabrikationsanlage von GTA Semiconductor neben Stickstoff auch mit Sauerstoff, Argon, Kohlendioxid sowie trockener Druckluft (CDA) versorgen.
Die Halbleiterindustrie in China soll in Bezug auf Fähigkeiten und Kapazitäten weiter wachsenm, erwartet etwa Stan Tang, Präsident und Geschäftsführer von LLH China. Die Netzwerkdichte von Linde in China ermögliche dem Unternehmen, weiterhin langfristige Wachstumsprojekte zu realisieren und die Position im Bereich Elektronikindustrie auszubauen. (jg)
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