Solvay entwickelt umweltfreundliche Fluorgasproduktion für Photovoltaik- und Halbleiterindustrie

25.08.2011 Der Chemiekonzern Solvay errichtet im koreanischen Onsan eine Versuchsanlage zur effizienten Produktion von Fluorgas (F2). Es soll das treibhauswirksame Gas Stickstofftrifluorid (NF3) für Reinigungsprozesse bei der Herstellung von Photovoltaikanlagen, Halbleitern sowie Bildschirmen ersetzen.

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Solvay entwickelt umweltfreundliche Fluorgasproduktion für Photovoltaik- und Halbleiterindustrie

Der Solvay-Standort in Onsan, Korea (Bild: Solvay)

Die Anlage, die nach dem neuen Produktionsverfahren arbeitet, soll helfen, die Treibhausgas-Emissionen der Photovoltaik- und Halbleiterindustrie zu senken und lässt sich durch ihren modularen Aufbau beliebig erweitern. Nach erfolgreichem Probebetrieb will Solvay die Produktionseinheit an einen Kunden liefern. Bernd Wilkes, stellvertretender Vorsitzender bei Solvay, erklärt: „Mit dieser patentierten Technologie bieten wir unseren Kunden maßgeschneiderte Lösungen in der Fluorgasproduktion, von wenigen Kilos bis einigen 100 t im Jahr.“ FN3 hat ein um 17.200-fach höheres Treibhauspotenzial als CO2. Im Vergleich hierzu ist die Treibhauswirksamkeit von F2 vernachlässigbar gering.

Die Originalmeldung von Solvay lesen Sie hier.

Der Standort der Fluorgasanlage in Onsan, Korea:


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